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新(xin)型CMP用二氧化(hua)硅(gui)研磨料(liao)娟劉玉嶺張建新(xin)摘要(yao):介(jie)紹化(hua)學機械拋光技術的(de)重要(yao)性,找出影響其性能的(de)關(guan)鍵(jian)因素即為研磨料(liao)。然(ran)后對(dui)常用的(de)研磨料(liao)種類做概要(yao)論述,。

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2012年12月10日-隨著國產(chan)硅(gui)石灰粉(fen)專用研磨設備技術的(de)(de)升級(ji),在市場(chang)中出現(xian)的(de)(de)次數越(yue)來(lai)(lai)越(yue)多,根據我國自主技術的(de)(de)開(kai)發潛能來(lai)(lai)看(kan),要不了幾(ji)年,我國硅(gui)石粉(fen)的(de)(de)處理(li)能實現(xian)根的(de)(de)。

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