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新型CMP用二氧化硅研磨料-《半導體技術》2005年08期

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樹(shu)(shu)脂的(de)(de)熱(re)膨(peng)脹系數平均約為65×10-6m/cm/℃;,比對封(feng)裝(zhuang)樹(shu)(shu)脂中的(de)(de)金屬埋人件的(de)(de)熱(re)膨(peng)脹系數大很多。半(ban)導(dao)體所用的(de)(de)框架(LEADFRAME)與環氧樹(shu)(shu)脂相差甚遠。若以純樹(shu)(shu)脂來。

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