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2011年9月(yue)19日(ri)-本文(wen)綜述了(le)非金屬礦超細粉(fen)碎(sui)技術和設備的發(fa)展現狀,指出了(le)目前存在(zai)的問題和發(fa)展方向。

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2012年4月9日-涂料(liao)乳(ru)液鈦白粉(fen)溶劑(ji)助劑(ji)碳酸(suan)鈣超(chao)細(xi)高嶺(ling)土(tu)用超(chao)細(xi)粉(fen)碎設備發展概況干(gan)法大多用于煤系(xi)高嶺(ling)土(tu)的超(chao)細(xi)粉(fen)碎,直接將煤系(xi)高嶺(ling)石(shi)干(gan)法粉(fen)碎成一定(ding)細(xi)度的。

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2005年11月25日-環輥磨是閩西豐力(li)粉碎(sui)機械有限公司研制的(de)產品(pin)(號:ZL00270593.7),是目前(qian)國(guo)內較先進的(de)干(gan)法生產碳酸(suan)鈣超細粉體(ti)(d97<10μm=的(de)細磨設備(bei)。2。

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是取代氣流粉(fen)碎(sui)機、超細(xi)(xi)研磨機的理想超細(xi)(xi)粉(fen)加(jia)工(gong)設備,加(jia)工(gong)細(xi)(xi)度(du)在500-2500目(mu)。適(shi)用范圍:可適(shi)用加(jia)工(gong)顏料、碳酸鈣、滑石(shi)(shi)、石(shi)(shi)膏、氧化(hua)鋁、石(shi)(shi)灰(hui)石(shi)(shi)、大理石(shi)(shi)、石(shi)(shi)墨、石(shi)(shi)榴。

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2013年(nian)9月23日-浙(zhe)江力普粉碎設備(bei)有(you)限公司創(chuang)新研發的3項粉碎設備(bei)——納米碳酸鈣(gai)粉碎成套(tao)生產粉碎,對聚乙烯醇、PVC、PE、纖(xian)維性物(wu)料等(deng)幾乎所有(you)熱(re)敏性物(wu)料均能進(jin)行超細。

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2012年(nian)7月(yue)27日(ri)-豫(yu)弘重(zhong)工(gong);錘式破碎(sui)機;雷蒙磨(mo);球磨(mo)機;攪拌磨(mo);粉(fen)(fen)(fen)碎(sui)設備;粉(fen)(fen)(fen)磨(mo)系統重(zhong)質碳(tan)酸鈣的加工(gong)主要(yao)是粉(fen)(fen)(fen)碎(sui)(錘式破碎(sui)機或者(zhe)對輥(gun)破碎(sui)機)、超細粉(fen)(fen)(fen)碎(sui)(灰鈣機或者(zhe)。

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[中介]礦石(shi)(shi)超(chao)細(xi)(xi)粉(fen)碎機是指(zhi)上海科利瑞克(ke)機器有限公(gong)司的礦石(shi)(shi)超(chao)細(xi)(xi)磨粉(fen)機,該超(chao)細(xi)(xi)粉(fen)碎機可廣(guang)泛應用于各種礦石(shi)(shi)微粉(fen)原料的粉(fen)碎和(he)加工上,如方解石(shi)(shi),重(zhong)晶石(shi)(shi),石(shi)(shi)灰石(shi)(shi),白云石(shi)(shi),碳酸。

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粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)機(ji)是將大尺寸(cun)的(de)(de)固體原(yuan)料(liao)(liao)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)要(yao)求尺寸(cun)的(de)(de)機(ji)械。根據被碎(sui)(sui)(sui)料(liao)(liao)或碎(sui)(sui)(sui)制料(liao)(liao)的(de)(de)尺寸(cun)可將粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)機(ji)區(qu)分(fen)為粗碎(sui)(sui)(sui)機(ji)、中碎(sui)(sui)(sui)機(ji)、細(xi)磨機(ji)、超(chao)細(xi)磨機(ji)。在粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)過程中施加于固體的(de)(de)外(wai)力。

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金鋼(gang)砂(sha)、堿石、重輕質碳酸鈣、硼玻(bo)璃、貝殼、雜(za)骨等(deng)一百多種可(ke)粉(fen)碎物料的超細微制粉(fen)機規格性能(neng)表:分項\型號450650700主機轉速(su)3300轉3300。

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2010年(nian)8月19日(ri)-已經不能(neng)滿足其特(te)定要求,因(yin)此,人們試(shi)圖尋找更高效、更節能(neng)的超(chao)細粉(fen)碎設備(1)粒(li)度及粒(li)度分布要求:底涂級(ji)重質碳酸(suan)鈣(GCC)-2um大于60%,而面涂。

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