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2007年10月22日(ri)-訪十(shi)七大(da)代表碳化硅專(zhuan)家(jia)張立同院士新聞(wen)來(lai)源:中國研磨(mo)(mo)網發布日(ri)期(qi):2007-10MSN:abrasive_#hotmail.(請將#改為@)研磨(mo)(mo)群:普(pu)磨(mo)(mo)及制品(。
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2012年7月19日(ri)(ri)-據日(ri)(ri)經BP社報道,精工技(ji)研(yan)公司近日(ri)(ri)確立了能(neng)實(shi)現高速(su)、高精度研(yan)磨加工而備受關注(zhu)的(de)新一代半導體(ti)底板材料——碳化硅(SiC)晶圓的(de)技(ji)術。目前已(yi)經開始面向(xiang)研(yan)究。
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